Omitek APO Metallurgisches Mikroskop mit großem Arbeitsabstand MT12/80/60/40L
Das metallurgische Mikroskop APO MT12/80/60/40L von Omitek mit großem Arbeitsabstand schließt eine Marktlücke durch hohe Vergrößerung und extrem großen Arbeitsabstand. Es eignet sich hervorragend für die Inspektion von Bauteilen mit hohem Hohlraumdurchmesser (Mikrowellengeräte, Halbleiter etc.), unterstützt Hellfeld-, Dunkelfeld- und DIC-Beobachtung, bietet Waferplattformen von 4" bis 12" und integriert KI-gestützte Erkennung. Ideal für Probestationen, Markierung und Reinigung in Halbleiterfertigungslinien.
Wichtigste technische Vorteile
Fortschrittliches optisches System
Es ist mit apochromatischen (APO) Objektiven für große Arbeitsabstände ausgestattet. Beispielsweise sind 2x/NA0,06/WD34, 5x/NA0,15/WD45, 10x/NA0,3/WD34, 20x/NA0,3/WD31 sowie optional 50x NA0,45/WD21 und 100x NA0,80/WD6 Objektive erhältlich. Diese Objektive liefern selbst bei hoher Vergrößerung scharfe Bilder ohne chromatische Aberration und ermöglichen gleichzeitig einen großen Arbeitsabstand für flexibles Arbeiten.
Durch die Verwendung eines unendlich langen Tubus und eines unendlichkeitskorrigierten optischen Systems wird eine helle und klare Abbildung über das gesamte Sichtfeld gewährleistet. Eine häufige optische Korrektur während des Gebrauchs ist nicht erforderlich.
Vielseitige Beobachtungsmodi
Es unterstützt Hellfeld-, Dunkelfeld-, Polarisationslicht- (P) und Differenzialinterferenzkontrast-Bildgebung (DIC). Diese breite Palette an Bildgebungsmodi ermöglicht die präzise Untersuchung von Oberflächenstrukturen, Defekten und Materialinhomogenitäten in Halbleiterchips, Flachbildschirmen, Leiterplatten und Präzisionsformen. Beispielsweise kann der DIC-Modus die Erkennung von Mikrorissen oder Schichtablösungen durch eine verbesserte Kantenerkennung optimieren.
Großflächige Probenahmeplattformen
Es stehen Plattformgrößen von 4", 6", 8", 10" und 12" zur Verfügung, um Wafer unterschiedlicher Dimensionen aufzunehmen – von kleinen Halbleiterchips bis hin zu großen FPD-Substraten. Der Tisch unterstützt manuelle Bewegungen sowie Bewegungen entlang der X-, Y- und Z-Achse. Der Verfahrweg für die Fokussierung beträgt 50 mm bis 76 mm, für die XY-Positionierung 210 mm × 210 mm. Feineinstellknöpfe gewährleisten eine Genauigkeit im Mikrometerbereich, die für die stabile Probenplatzierung bei kritischen Prüfungen wie der Ausrichtung der Messstation unerlässlich ist.
Intelligenter und effizienter Workflow
Die KI-Bilderkennung ist in das Mikroskop integriert und automatisiert Fehlererkennung, Messung und Datenerfassung. In Verbindung mit der Software-Suite von Omitek vereinfacht sie die Qualitätskontrolle. Anomalien in Lötstellen, Beschichtungsgleichmäßigkeit oder Chip-Bonding werden sofort erkannt, wodurch menschliche Fehler reduziert und Inspektionszyklen beschleunigt werden.
Industriequalität
BeleuchtungEs nutzt Köhlerbeleuchtung mit einer 10-W-LED-Lichtquelle (Helligkeit einstellbar) und sorgt so für eine gleichmäßige und flimmerfreie Ausleuchtung und konsistente Bildgebung. Optionale Dunkelfeld-/DIC-Module können den Kontrast weiter verbessern.
FokussystemGrob-/Feinfokussierknöpfe mit Klickstopp-Einstellung ermöglichen eine präzise Z-Achsen-Steuerung (Auflösung: 0,001 mm), was für die Auflösung von Nanostrukturen in modernen Halbleitern von entscheidender Bedeutung ist.
Haltbarkeit: Konzipiert für den industriellen 24/7-Einsatz, verfügt es über robuste Mechanik wie vibrationsdämpfende Bühnenhalterungen und abgedichtete optische Wege, um auch rauen Produktionsumgebungen standzuhalten.
Branchenanwendungen
Halbleitersektor: Wird verwendet bei Probestationsoperationen (Die-Bonding-Inspektion, Lötpastenvolumenmessung), Wafer-Level-Packaging (WLP)-Fehleranalyse und MEMS-Bauelementcharakterisierung.
OptoelektronikPrüft TO-Dosenlaser, Butterfly-Gehäusekomponenten und optische Faserverbinder.
Unterhaltungselektronik: Erkennt Defekte in FPD-Panels (LCD/OLED), kontrolliert die Qualität von Berührungssensoren und prüft die Laminierung des PCB-Substrats.
Präzisionsfertigung: Überprüft die hermetische Dichtheit von Keramikkondensatoren, die Montage von Filtermodulen und die Oberflächenbearbeitung von High-End-Formen.
Warum dieses Modell wählen?
Im Gegensatz zu herkömmlichen metallografischen Mikroskopen vereint das MT12/80/60/40L hohe Vergrößerung (bis zu 100x) mit einem uneingeschränkten Arbeitsbereich dank seines extrem langen Arbeitsabstands. Dadurch ist es unverzichtbar für Aufgaben, die sowohl Detailgenauigkeit als auch Manövrierfähigkeit erfordern, wie beispielsweise die Halbleiterprüfung, die manuelle Markierung oder Reinraumarbeiten, bei denen eine fehlerfreie Probenrepositionierung unerlässlich ist. Sein modularer Aufbau ermöglicht zudem die individuelle Anpassung mit Zubehör wie motorisierten Tischen, hochauflösenden Kameras und Datenanalysesoftware und bereitet so den Weg für zukünftige automatisierte Inspektionslinien.
Wartung und Support
Omitek bietet einen umfassenden Kundendienst:
Kalibrierungszertifizierung für optische Komponenten zur Sicherstellung metrologischer Genauigkeit.
Schulungsprogramme zur Softwarebedienung, einschließlich Bildanalyse und Konfiguration von KI-Algorithmen.
Schnelle Verfügbarkeit von Ersatzteilen für kritische Komponenten (Objektive, Beleuchtungsmodule).
Abschluss
Das metallurgische Mikroskop APO MT12/80/60/40L mit großem Arbeitsabstand setzt neue Maßstäbe in der Präzisionsprüfung hochwertiger Bauteile mit vielen Kavitäten. Durch die Kombination modernster Optik, intelligenter Automatisierung und industrieller Robustheit unterstützt es Hersteller bei der fehlerfreien Qualitätskontrolle in der Halbleiter-, Optoelektronik- und fortgeschrittenen Fertigungstechnik.
SEO-Schlüsselwörter
Metallurgisches Mikroskop (Apo), Mikroskop mit großem Arbeitsabstand, Halbleiterinspektionsmikroskop, Mikroskop mit hoher Vergrößerung, DIC-Mikroskopie, Hellfeld-Dunkelfeldmikroskop, Wafer-Inspektionsgerät, Mikrochip-Testgerät, Omitek-Mikroskopie, industrielles Metallographiemikroskop, KI-Mikroskopie, Probestationsmikroskop, optische Inspektionsmaschine, Mikroelektronik-Testgerät
