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DB550 Ga+ Fokussiertes Ionenstrahl-Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop
Das DB550 integriert eine Ga+-FIB-Säule (Focused Ion Beam) mit einem Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop (FE-REM) und verfügt über eine „Super Tunnel“-Elektronenoptik (aberrationsarme, magnetfeldfreie Linse), eine Ionenauflösung von 3 nm bei 30 kV und eine Rasterelektronenmikroskop-Auflösung von 0,9 nm bei 15 kV. Es beinhaltet einen Nanomanipulator (≤10 nm Präzision), ein Gaseinspritzsystem (Einzelgaseinspritzung, Temperaturregelung ±0,1 °C) und eine 8-Zoll-kompatible Schleuse. Ideal für die Nanofabrikation, die Halbleiterfehleranalyse und die Materialcharakterisierung mit automatisierten Arbeitsabläufen und erweiterbaren Detektoren (EDS/EBSD/STEM).
DB550 Ga+ Fokussiertes Ionenstrahl-Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop Integrierte FIB-SEM-Workstation Supertunnel-ElektronenoptikSend Email Einzelheiten
